ZEISS EVO系列 掃描式電子顯微鏡 (SEM)
模組化高解析掃描電鏡，建構實驗室自動化分析與高真空/環境成相中心。
ZEISS EVO 結合卓越的影像品質與直覺式工作流程，提供高真空、變壓及環境真空模式，能跨足材料失效分析、生命科學及品質管控。其自動化導航與多樣本處理能力，大幅提升實驗室的數據產出效率。
SmartSEM Touch 觸控導航
整合直覺式觸控介面，即使是非專業使用者也能快速上手。透過自動化對焦、亮度與對比調整，縮短從置樣到獲得高品質影像的學習曲線。
Crossover-free 變壓成相技術
針對不導電或易受損樣本，EVO 提供優異的環境真空 (Environmental) 模式，無需導電鍍層即可直接觀察樣本真實表面結構，避免人工偽影干擾。
多感測器整合分析系統
支援與 EDS (能譜儀)、WDS、EBSD 及 CL 檢測器的高效率整合。最佳化的幾何設計確保在分析模式下仍能保有極短的工作距離，提升元素分析的靈敏度與解析度。
大尺寸樣品室彈性
提供多種艙體尺寸選擇，最高可容納直徑達 250mm、高度達 145mm 的重型樣本，並具備 5 軸馬達驅動載物台，滿足大型工業零件的檢測需求。
ZEISS EVO 10
精悍高效型
- 專為例行性檢測設計，佔地面積最小。
- 最大樣品高度：100 mm。
- 適用於教學、小型零件品管與一般材料鑑定。
ZEISS EVO 15
研究分析平衡型
- 最受歡迎的多功能研究平台，擴展性極佳。
- 最大樣品高度：145 mm。
- 可選配高靈敏度離子泵 (Ion Pump)，優化高真空表現。
ZEISS EVO 25
大尺寸工業級
- 針對大型樣品與材料失效分析設計。
- 最大樣品高度：210 mm，最大載重：2 kg。
- 具備更多感測器接口，支援複雜的多重分析配置。
技術規格參數表
| 規格項目 | EVO 10 | EVO 15 | EVO 25 |
|---|---|---|---|
| 電子源 (Electron Source) | 鎢絲燈絲 (Tungsten) / 選配 六硼化鑭 (LaB6) | ||
| 解析度 (Resolution) | 3.0 nm @ 30 kV (SE); 4.5 nm @ 30 kV (BSD – 變壓模式) | ||
| 加速電壓 (Acceleration Voltage) | 0.2 kV 至 30 kV | ||
| 放大倍率 (Magnification) | 5x 至 1,000,000x | ||
| 樣品室尺寸 (Chamber Size) | 310 mm (ø) x 220 mm (h) | 365 mm (ø) x 275 mm (h) | 420 mm (ø) x 330 mm (h) |
| 最大樣品高度 (Max Sample Height) | 100 mm | 145 mm | 210 mm |
| 載物台行程 (Stage Travel X/Y) | 80 mm x 100 mm | 125 mm x 125 mm | 130 mm x 130 mm |
| 真空模式 (Vacuum Modes) | 高真空 (High Vacuum) / 變壓模式 (Variable Pressure) / 環境模式 (Extended Pressure) | ||
| 壓力範圍 (Pressure Range) | 10 至 3,000 Pa (依配置而定) | ||
| 分析介面 (Analysis Ports) | 多重端口 (含 EDS 35° 爬升角) | 多重端口 (含 EDS, EBSD, WDS) | 極大化端口 (支援雙 EDS 偵測器) |